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Fused Silica Powder - 熔融硅微粉

Polvo de Sílice Fundido

Polvo de Sílice Fundido

Elaborado a partir de cuarzo de alta pureza mediante fusión a alta temperatura y molienda fina. Bajo coeficiente de expansión térmica, excelente aislamiento eléctrico.

Especificaciones

Contenido SiO₂≥99.9%
Blancura≥90
Tamaño Partícula (D50)2-30μm
Expansión Térmica0.5×10⁻⁶/℃
Aislamiento EléctricoExcelente
Densidad2.2 g/cm³
Dureza Mohs5.5
Constante Dieléctrica3.8
Humedad≤0.1%
Pérdida por Ignición≤0.2%

Modelos y Especificaciones

Modelo Malla D50 Pureza Aplicaciones
FS-200 200 mesh — ≥99.9% Fundición de PrecisiónMoldes de Cáscara
FS-325 325 mesh ~44 μm ≥99.9% Uso GeneralRecubrimientos
FS-1250 1250 mesh ~10 μm ≥99.9% Baja ExpansiónEmpaquetado Electrónico
FS-3000 3000 mesh 3-5 μm ≥99.95% Empaquetado de SemiconductoresEmpaquetado Electrónico
FS-5000 5000 mesh 1-3 μm ≥99.98% MicronizadoEmpaquetado de Semiconductores

Aplicaciones

Encapsulado Electrónico Recubrimientos Adhesivos Fundición Precisión
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Preguntas Frecuentes

¿Qué es el polvo de sílice fundido?

El polvo de sílice fundido se fabrica fundiendo cuarzo de alta pureza a alta temperatura y moliéndolo. Tiene baja expansión térmica y excelente aislamiento eléctrico, ideal para encapsulado electrónico.

¿Qué especificaciones hay?

Disponible de malla 200 a 5000, pureza ≥99.9%-99.98%. Grados de bajo alfa disponibles.

¿Para qué se utiliza?

El polvo de sílice fundido se usa en encapsulado electrónico, compuestos de moldeo epoxi, laminados recubiertos de cobre y fundición de precisión.

¿Cuáles son los beneficios del grado bajo alfa?

El grado bajo alfa reduce la tasa de errores blandos (SER), adecuado para aplicaciones sensibles a la radiación como el encapsulado avanzado de semiconductores.

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